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       光譜分析儀是目前材料分析檢測的主要檢測手段，應(yīng)用在各個方面，那哪種更好呢？

       在光譜分析工作中，采用什么光源是提高光譜分析精密度和準(zhǔn)確度的關(guān)鍵所在。在經(jīng)典光譜分析工作中，根據(jù)分析對象采用火花光源、交流電弧或直流電弧光源。在特種對象分析中，如微區(qū)分析采用激光光源；逐層分析中采用輝光光源；對易揮發(fā)的痕量元素分析采用空心陰極光源等。這些光源在光譜分析工作中，都是為某種分析物體或某些分析元素采用所采用的不同分析手段。在金屬冶煉廠為配合爐前分析，采用火花光源結(jié)合光電直讀光譜儀分析。這些光源和儀器，目前仍是光譜分析工作者的主要應(yīng)用手段，擔(dān)負(fù)著大量的分析任務(wù)。

       但是經(jīng)典光源光譜分析有許多局限性，尤其是對標(biāo)準(zhǔn)樣品的依賴性極大，因為經(jīng)典光譜法光源（電弧或火花）一般采用的標(biāo)準(zhǔn)樣品（或稱參比樣品）物理性質(zhì)、化學(xué)組成與分析樣品必須一致，對于原子發(fā)射光譜一般還必須采用內(nèi)參比法（內(nèi)標(biāo)法），且內(nèi)標(biāo)元素的光譜化學(xué)性質(zhì)：沸點、離解能、電離能、原于量和化學(xué)反應(yīng)能力、以及內(nèi)標(biāo)線的激發(fā)能和波長等必須與分析元素及分析線相近。因此，往往由于沒有合適的標(biāo)準(zhǔn)樣品，不能確保分析質(zhì)量，常用光源存在著第三元素干擾和固體物理結(jié)構(gòu)的影響，元素同時測定的范圍也受到一定限制，往往一套標(biāo)準(zhǔn)樣品只能測定一種牌號的合金，在實際工作中不可能有大量的標(biāo)準(zhǔn)樣品，尤其是配合材料研究分析，材料元素和元素成分都不定型，更無標(biāo)準(zhǔn)可用。

真空型直讀光譜儀的鑄造廠應(yīng)用

       ICP光源對以上弊病似乎都可以解決。它可以用基準(zhǔn)物質(zhì)經(jīng)過適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)處理，可配制成所需要的不同元素和不同濃度的標(biāo)準(zhǔn)溶液；同時ICP光源還具有以下分析特點：檢出限低；測量的動態(tài)范圍寬；準(zhǔn)確度好；基體效應(yīng)??；精密度高；曝光時間短；原子發(fā)射光譜分析所具有的多元素同時分析的特點與其他分析方法逐個元素單獨測定相比，無論從效率的經(jīng)濟(jì)，技術(shù)等方面都具有很大的特點，這也是ICP原子發(fā)射光譜分析取得很大進(jìn)展的原因之一。

       但是個別元素，因為其譜線范圍問題，例如Sn，非真空儀器和一般ICP進(jìn)樣技術(shù)是無能為力的，所以ICP光譜儀也不能替代經(jīng)典光譜法。